11月13日至14日，庆祝西泠印社建社120年系列活动之西泠印社第七届“孤山证印”学术研讨会在杭州举行。

　　本次学术研讨会以“20世纪以来中国篆刻与西泠印社关系之研究”为主题，不仅是对西泠印社在篆刻艺术历史上的总体回顾，更是对西泠印社在印学理论研究上取得的丰硕成果的肯定。期望通过本次研讨会，能够进一步总结西泠印社在印学理论研究方面的经验，探讨新时代下篆刻艺术与印学理论的发展方向，为中国篆刻艺术的未来发展贡献新的力量。

　　来自海内外印学及相关研究领域的专家学者、部分西泠印社理事和社员，以及浙江大学、中国美术学院、浙江财经大学、杭州师范大学等部分在杭高校相关专业师生一百三十余人参加了研讨会。共有50余位专家学者围绕“20世纪以来中国篆刻与西泠印社之关系研究”的主题，从各自的学术研究成果开展了研讨。

　　闭幕式上，中国文联副主席、西泠印社副社长兼秘书长陈振濂以点评的形式对本次研讨会进行了归纳总结。他表示，本次研讨会，学者们立足于原有研究成果及方向，在印学当代史、观念史和现代史、美学史、文献史及国内外的美术资料等方向提出了新的理论，让我们对西泠印社今后的学术研究更有信心。

　　“孤山证印”是西泠印社在印学研究领域最具规模度和影响力的学术活动品牌，自2005年设立以来，今年已是第七届。本次研讨将对促进国际印学界学术资源的整合、共享与交流，推动当代印学研究深入发展发挥积极作用。

　　西泠印社第七届“孤山证印”学术研讨会获奖名单

　　一等奖

　　祝　童

　　二等奖（按姓氏笔画排序）

　　朱天曙 林　如 秦　陶 崔宗旭

　　三等奖（按姓氏笔画排序）

　　万子昂 王坚助 王景田 元国霞 申　俭 朱金国 李雪婷

　　杨　庆 吴彦颐 张东升 张忠慧 张炜羽 陈　庆 蔡思超